La fotógrafa Ouka Leele será la primera artista española en participar en la Bienal de Shanghai

22 de Octubre del 2010 a las 15:04:53 0 Leído (191)

España contará, por vez primera, con un representante en la Bienal de Shanghai, cuya octava edición está a punto de empezar. Será la artista madrileña Ouka Leele (Madrid, 1957), que participará dentro de la sección "ACT 3 Rehearsal". Esta sección es la que cuenta con el mayor número de artistas, y en la que se podrán ver obras de creadores como Isaac Julien (Reino Unido, 1960), al que le representa en España la madrileña Helga de Alvear, o Carlos Garaicoa (Cuba, 1967), del que podemos ver, hasta principios de noviembre, la exposición "Fin de silencio" en Matadero Madrid, entre otros. Ésta no será la primera participación expositiva en el gigante asiático para la fotógrafa madrileña. Ouka Leele ya expuso en 2008 en el Centro de Arte Contemporáneo "Iberia" - Iberia Center for Contemporary Art & IAC de Beijing, propiedad del empresario y coleccionista hispano-chino Gao Pin, cuya última exposición de un artista español ha correspondido a "Luces de Agosto", de Soledad Sevilla, celebrada entre agosto y septiembre últimos. Gao Pin, que cuenta también con la madrileña Gao Magee Gallery, especializada en artistas chinos, reconoció en su momento, en conversación con ARTEINFORMADO, que había comprado buena parte de la obra expuesta en Pekin por la española Ouka Leele.

La 8ª Bienal de Shanghai se inaugurará el próximo día 23 de octubre y extenderá sus actos hasta el 28 de febrero de 2011. Su octava edición lleva por título "¿Qué es el ensayo?" y cuenta con un equipo curatorial compuesto por 4 curadores chinos, que han seleccionado para esta edición a 50 artistas distribuidos en cinco secciones. Además, de los arriba citados, se encuentran artistas consagrados como Chen Chieh-jen (Taiwan, 1960), del que hemos podido ver trabajos suyos en La Fábrica Galería en Madrid o en el Museo Reina Sofía; el japonés Nguyen jun-Hatsushiba (Japón, 1968) o el británico Liam Gillick (Reino Unido, 1964), entre muchos otros.

La primera edición se celebró en 1996 y en ella tomaron parte 29 artistas con 160 obras. En su segunda edición, la de 1998, la cifrá subió a 50 artistas, y al igual que en la primera, no hubo ningún artista occidental entre los creadores de las 256 obras que se exhibieron entonces, ya que todos eran artistas chinos. En la tercera edición, en el año 2000, por primera vez, se formó un grupo de comisarios dentro de la Bienal compuesto por miembros chinos e internacionales. En esta tercera edición, fueron 66 artistas los participantes, pero también, por primera vez, provenían de 18 países y se presentaron más de 300 obras entre óleos, pinturas chinas, grabados, esculturas, fotografías, instalaciones, vídeo, medios de comunicación, obras de arquitectura, etc. Los artistas extranjeros eran procedentes de Europa, EE.UU., África y Asia, y representaban el profundo cambio producido en los años 90 dentro del mundo artístico internacional y las tendencias que había en este momento en el arte contemporáneo internacional. Se pudieron ver obras de artistas como las de los norteamericanos Matthew Barney (EE.UU., 1967) y Philip-Lorca diCorcia (EE.UU., 1951) o el indio-británico Anish Kapoor (India, 1954). Por su parte, la mayoría de los artistas chinos seleccionados por el grupo de comisarios fueron los líderes del arte contemporáneo en China, en ese momento. De nuevo en la cuarta edición de 2002, la presencia internacional continuó, y participaron 68 artistas, entre ellos, el estudio de arquitectura japonés Sanaa (Kazuyo Sejima + Ryue Nishizawa), Pipilotti Rist (Suiza, 1962), Andreas Gursky (Alemania, 1955) o Pierre Huyghe (Francia, 1962). Se amplió, también, la internacionalización del equipo curatorial, con hasta 3 curadores no chinos. Continuando con este compromiso con la práctica artística contemporánea y una mayor apertura internacional, en la quinta edición de 2004, serían 107 artistas los que mostrarían sus trabajos, entre ellos nombres cada vez más internacionalmente conocidos y cotizados, como Jeff Wall (Canadá, 1946), Yoko Ono (Japón, 1933), Cindy Sherman (EE.UU., 1954) o Bill Viola (EE.UU., 1951). Su equipo curatorial, esta vez, reduciría la presencia de curadores no chinos a un sólo representante. En 2006, serían 94 artistas los que participarían, y el equipo curatorial lo conformaron 6 miembros, siendo la primera vez en su historia que los representantes chinos eran minoría, con sólo dos miembros dentro de él. En la séptima edición en 2008, última celebrada hasta la fecha, participaron 58 artistas. De nuevo se contó con la presencia de nombres tan destacados como Thomas Ruff (Alemania, 1958), Mike Kelley (EE.UU., 1954) o Harun Farocki (República Checa, 1944), por citar sólo algunos. En esta última edición de 2008, el equipo curatorial estuvo conformado por tres miembros, con un sólo curador chino. ARTEINFORMADO

• Realizar comentario